橫向平臺石墨管原子吸收 北京普析通用縱向由合肥欣澤實(shí)驗(yàn)設(shè)備有限公司提供，產(chǎn)品規(guī)格齊全，原子吸收石墨管在分析化學(xué)中被廣泛應(yīng)用,可以檢測和測定許多物質(zhì)中的微量元素?？蛇m配不同進(jìn)口、國產(chǎn)品牌原子吸收。

橫向平臺石墨管原子吸收 北京普析通用縱向產(chǎn)品介紹：

產(chǎn)品名稱：原子吸收橫向石墨管、縱向石墨管

規(guī)格：II型、III型

特點(diǎn)：靈敏度高、使用壽命長、性價(jià)比高等

用途：原子吸收石墨管在分析化學(xué)中被廣泛應(yīng)用,可以檢測和測定許多物質(zhì)中的微量元素

簡介：原子吸收石墨原子化器，具有靈敏度高、使用壽命長高性價(jià)比特點(diǎn)。采用高純、高密和高強(qiáng)度石墨材料研制的石墨管，其各項(xiàng)測試性能指標(biāo)與進(jìn)口國外同類型石墨管基本一致，其中靈敏度、使用壽命還優(yōu)于國外進(jìn)口石墨管?，F(xiàn)備有適用于PE (美國)、Varian (美國)、熱電(美國)、惠普(美國)、安捷倫(美國)、日立(日本)、島津(日本)、GBC (澳大利亞)等縱向加熱型及PE (美國)、耶拿(德國)、GBC (澳大利亞)、Aurora (加拿大)等橫向加熱型的國外原子吸收光譜儀用石墨管、石墨錐，也有適用于瑞利、普析通用、析瀚時(shí)、華洋、海光、東西電子、上分廠、上海光譜、沈陽華光等國內(nèi)原子吸收光譜儀用石墨管、石墨錐。特殊型號的石墨管、石墨錐也可加工。

產(chǎn)品相關(guān)型號介紹表格：

產(chǎn)品使用說明：

一：目前石墨管/石墨錐按加熱方式的不同，有縱向加熱石墨管和橫向加熱石墨管之分與之對應(yīng)也有縱向加熱石墨錐和橫向加熱石墨錐之分。

縱向加熱石墨管有:

標(biāo)準(zhǔn)石墨管一適用于原子化溫度≤2000°C的元素，如Cd、Pb、Ag等元素的測試。

涂層石墨管-適用于低、中、高溫原子化的元素。

平臺鍍層管-適用于中、低溫原子化的元素，優(yōu)點(diǎn)是精度好，消除干擾能力強(qiáng)。

橫向加熱石墨管有:

涂層石墨管-適用于低、中、高原子化元素。

平臺石墨管-適用于低、中、高溫原子化的元素，精度好，消除干擾能力強(qiáng)。

高靈敏度石墨管-適用于低、中、高溫原子化的元素，精度好，靈敏度高，消除干擾能力強(qiáng)。

二：當(dāng)石墨錐已使用過，在裝入石墨管之前應(yīng)將石墨錐與石墨管接觸處用擠去酒精的棉棒進(jìn)行清潔處理，而后將石墨管裝入石墨爐中，校正進(jìn)樣孔。

三：啟動儀器事先設(shè)計(jì)好的空燒程序，對石墨管進(jìn)行空燒，使石墨管空燒的吸收值近似一個(gè)很小的吸收值或者為零。

四：調(diào)節(jié)自動進(jìn)樣器毛細(xì)管插入石墨管內(nèi)的深度。以空白液滴的下端剛剛接觸到石墨管的內(nèi)壁，而同時(shí)液滴上端也脫離進(jìn)樣毛細(xì)管，以此為準(zhǔn)。

五：石墨爐用的保護(hù)氣體應(yīng)該采用高純度(≥99. 99%)的惰性氣體氬氣而不采用氮?dú)狻Ｒ驗(yàn)榈獨(dú)馐箻O大多數(shù)金屬元素的吸收值降低并在高溫下與石墨管的碳生成有毒的CN分子，產(chǎn)生嚴(yán)重的分子發(fā)射和背景吸收。同時(shí)石墨管的壽命也比使用氬氣做保護(hù)氣體時(shí)要短。

六：換一批新石墨管測定時(shí)，必須先進(jìn)行待測元素的烘干溫度和時(shí)間、灰化溫度和時(shí)間、原子化溫度和時(shí)間的選擇試驗(yàn)，求得待測元素的較佳溫度和時(shí)間。因?yàn)槊恳慌?墨管的電阻多少會有差別。

七：請分析工作者切記:待測樣品溶液絕對不能含有高氯酸、硫酸等強(qiáng)氧化性介質(zhì)，否則對石墨管的破壞很快且嚴(yán)重。尤其是用氫氟酸分解樣品后用高氯酸趕去氫氟酸的操作，高氯酸必須清除干凈，否則就會出現(xiàn)開始標(biāo)準(zhǔn)曲線測得很好，測樣品溶液時(shí)很快就出現(xiàn)吸收值相差很大，測試數(shù)據(jù)無法采用，再測標(biāo)準(zhǔn)溶液時(shí)數(shù)據(jù)變壞。

八：采用石墨爐測定元素時(shí)，吸收值要采用峰面積形式而不采用峰高形式測量，這樣帶來較小的誤差，而采用峰高測量時(shí)，影響因素太多，會帶來較大的誤差。

九：測定時(shí)，烘干、灰化、除殘階段，石墨管內(nèi)氣路、外氣路必須通氬氣保護(hù);原子化階段時(shí)內(nèi)氣路停氣，加熱時(shí)間一般為2-3秒;測定中高溫原子化元素采用較大功率加熱，低溫原子化元素采用1秒或0. X秒加熱。